搜狗做题网H2SO4 刻蚀
来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/07/17 12:01:57
2SO2＋O2＝2SO3SO3＋H2O＝H2SO4还有一种SO2＋H2O＝H2SO32H2SO3＋O2＝2H2SO4
先与氧气生成SO3,SO3再与水生成H2SO4.再问：方程式再答：或者先生成H2SO3,再生成H2So4再问：连写
FeS+H2SO4=H2S↑+FeSO4FeS+2HCl=FeCl2+H2S↑
Na2S2O3+H2SO4=S↓+SO2↑＋H2O+Na2SO4反应中,H2SO4没有做氧化剂也没有做还原剂,它只起酸的作用硫代硫酸钠中的硫的确是+2价,但是自身发生氧化还原反应,变为0价和+4价,这
稀H2SO4和NaCl不反应浓H2SO4和固体NaCl的反应：浓H2SO4和固体NaCl的反应受温度影响较大,在不加热或微热时的反应为：H2SO4（浓）+NaCl===NaHSO4+HCl↑要是强热到
2H2SO4+Cu===CuSO4+SO2+2H2O或者跟C反应,也可以生成SO2
一种用倒梯形剖面的光刻胶制作介质边缘缓坡的方法,包括：A．在基片上涂敷介质层；B．在高温下固化；C．旋涂光刻胶；D．光刻、显影,制作倒梯形剖面的光刻胶；E．用含有氧气的等离子体进行干法刻蚀,得到正梯形
这不是化学式啊写错了吧
4HF+SiO2==F2+Si+2H2O
等离子刻蚀首先是要利用气压为10～1000帕的特定气体（或混合气体）的辉光放电,产生能与薄膜发生离子化学反应的分子或分子基团,生成的反应产物是挥发性的.它在低气压的真空室中被抽走,从而实现刻蚀.通过选
一般化学刻蚀技术在纺织方面主要是指利用其它的先进技术,在纤维表面、或者在纺织品染色、纺织面料的印花方面,起到轻便、效果良好等作用.现在,最常用的表面刻蚀技术是低温等离子体加工技术.这种等离子体刻蚀技术
四氟化碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,发挥性较高,是最稳定的有机化合物之一,在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,仅在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015％
加还原剂再问：加什么还原剂？大家都知道加还原剂
首先是要利用气压为10～1000帕的特定气体（或混合气体）的辉光放电,产生能与薄膜发生离子化学反应的分子或分子基团,生成的反应产物是挥发性的.它在低气压的真空室中被抽走,从而实现刻蚀.通过选择和控制放
这是硫酸分子式
SiO2+4HF=SiF4+2H2O
H2SO4：表示硫酸.表示硫酸,也可表示一个硫酸分子.
20mL0.1mol•L-1氢氟酸中加入20mL0.1mol•L-1NaOH溶液．由于刚好中和,此时溶液的成份是NaFF-+H2OHF+OH-因此：电荷守恒:c(Na+)+c(
你这里的刻蚀率应该是,硅氮化物的可是速率与掩膜的比值.
这种硫酸是1体积的浓硫酸和1体积的水混合得到的,属于较浓的硫酸.简单一点,就是浓硫酸和水的体积比是1：1.这是一种浓度的表示方法,在实际生产中用的较多,在纯化学中不太常用.